光刻胶用光酸产生剂6-丁基-N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸 （6-Bu-NIOTf， CAS#: 1610827-31-0）

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6-丁基-N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸是阳离子光引发剂、非离子型光酸产生剂等添加剂，主要用于表面改性聚合物膜、正色调光刻胶组分，光致抗蚀剂组合物、复合材料，包括基材和涂覆在基材表面上的涂层等的制备[1]。

1. 产品的基本信息：

产品名称：6-丁基-N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸，6-Bu-NIOTf

英文名称：6-Butyl-1,3-dioxo-1H-Benzo[de]Isoquinolin-2(3H)-yl Trifluoromethanesulfonate

CAS No.：1610827-31-0

分子式：C17H14F3NO5S

分子量：401.36

规格：1G/5G/10G/25G

应用领域：电子化学，半导体化学，光刻胶， 光致产生剂/ 光酸/ PAG，光固化，紫外光固化，

3D打印等等。

2. 产品的质检报告：

3. 产品列表

4. 羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸酯类光酸特点

4.1 产酸机理: 用合适光源曝光，磺酸酯键断裂。萘酰亚胺磺酸酯类的产酸剂产酸效率较高（某些萘结构光酸可以2倍于其他结构的光酸）。

The mechanism of Photo Acid Generator used in Photo-resist for acid generator and polymer formations[2]

4.2  萘酰亚胺类产酸剂的特点：

①良好的光吸收能；良好的有机溶剂溶解性；高的热稳定性；高的产酸率。

②通过化学手段修饰和剪裁结构来改善相应光酸的性质易于实现。

即可通过各种化学修饰及剪裁较容易的实现微调萘酰亚胺萘磺酸酯类光酸的吸收性质。 故人们很容易的通过化学工程，实现溶解度、多芳性或通过改变萘核的取代模式来微调此类光酸的光学性质。这些性质使其成为很有前途的多功能光引发的候选物[3]。

The different chemical modifications enabling to finely tune the optical properties of 1,8-naphthalimides[3].

Reference:

[1].J. P. Malval et al, J. Phys. Chem. A 2008, 112, 3879-3885

[2]. K. W. et al, WO2019/ 045377 KO 2019 .03 .07

[3]. G. Noirbent et al, European Polymer Journal 2020, 132,109702.