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n型有机半导体材料 PhC2-BQQDI和PhC3-BQQDI

发布时间:2026-08-18 点击数:2
051572918596.pngn型有机半导体材料
PhC2-BQQDI和PhC3-BQQDI
本产品为n型有机半导体材料,其具有优异的大气稳定性和电子迁移速度。
n型有机半导体材料PhCn-BQQDI,无论采用真空沉积法,还是涂布法,均可形成再现性良好的成膜,但C2体(n=2)适合涂布法,而C3体(n=3)适合气相沉积法。
◆基本信息
 
PhC2-BQQDI
PhC3-BQQDI
名称
benzo[de]isoquinolino[1,8-gh]quinoline diimide(BQQDI
在骨架的亚胺基的氮原子上连有苯乙基(-C2H4Ph)。
benzo[de]isoquinolino[1,8-gh]quinoline diimide(BQQDI)在骨架的亚胺基团的氮原子上连有苯丙基(-C3H6Ph)。
结构式
实物图
包装
氩气填充
外观
红色~红棕色,结晶性粉末~粉末
◆特点
可用于气相沉积法和涂布法的高性能n型有机半导体材料。
■ 高迁移性
●涂布结晶形成的单晶在大气中的电子迁移速度为3 cm2/Vs
●真空蒸镀膜在大气中的电子迁移速度超过0.6 cm2/Vs
■ 高稳定性
●可在大气中长期保持稳定,不受器件结构的影响
●单晶有机薄膜晶体管(OFET)可维持半年以上,蒸镀法OFET可维持一个月以上
●迁移性降低率小于10%
■ 高耐性(PhC2-BQQDI)
●在单晶OFET中,选择任意基板,都具有超过150°C的高耐热应力
●良好的偏压应力
◆数据
①PhC2-BQQDI
LUMO能级估算、大气●热稳定性评估
● 通过循环伏安法(Cyclic Voltammetry,简称CV),估计LUMO为-4.11 eV(4-Hep-BQQDI具有优异的溶解性)
● 通过热重-差热分析法(Thermogravimetry-Differential Thermal Analysis,简称TG-DTA),在421 °C下未观察到分解或相变的热异常
● 大气储存下采用气相沉积法形成的100 nm薄膜在1个月内的紫外-可见光(UV-Vis)光谱无变化。
团聚体结构
呈砖砌型团聚体结构,能够观察到相邻BQQDI骨架之间的多分子相互作用,并可实现二维电荷传输。
PhC2-BQQDI的单晶OFET
元件结构
大气下的输出特性
②PhC3-BQQDI
PhC3-BQQDI单晶结构与LUMO之间的转移积分。
评估大气中真空气相沉积OTFT特性(通道长/宽=100 µm/1000 µm)
(a)OTFT结构图
(b)PhC2-BQQDI和(c)PhC3-BQQDI在饱和区随基板温度变化的传输特性(漏极电压:50 V)
 蓝线:室温、绿线:100°C、红线:180°C
(d)PhC2-BQQDI及(e)PhC3-BQQDI的迁移速度在大气中的经时变化
PhC2-BQQDI与PhC3-BQQDI
化合物
基板温度
平均(最大)迁移速度
(cm2 V-1S-1)†
平均阈值电压
(V)†
接触电阻
(kΩ cm)†
PhC2-BQQDI
室温
0.29(0.30)
4.6
4.8±0.6
100°C
0.54(0.54)
3.3
5.8±0.5
180°C
0.64(0.65)
3.5
4.7±0.4
PhC3-BQQDI
室温
0.32(0.33)
3.2
1.7±0.3
100°C
0.51(0.53)
1.4
4.3±0.6
180°C
0.65(0.70)
2.5
3.2±0.5
†:在饱和区(漏极电压=50 V)时评估
†:栅极电压=50 V时的估算值
※ 本页面产品仅供研究用,研究以外不可使用。
产品列表
产品编号产品名称产品规格
165-28601PhC2-BQQDI100 mg
166-28871PhC3-BQQDI100 mg